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回轉(zhuǎn)窯脫硝

回轉(zhuǎn)窯脫硝工藝簡介
回轉(zhuǎn)窯脫硝主要采用SNCR爐內(nèi)脫硝和SCR爐外脫硝。
SNCR脫硝

回轉(zhuǎn)窯脫硝選擇性非催化還原技術(shù)(SNCR)就是用NH3、尿素等還原劑噴入窯內(nèi)與NOX進(jìn)行選擇性反應(yīng),不用催化劑,因此在高溫區(qū)加入還原劑,而且還需要一定的停留時間。還原劑噴入窯內(nèi)合適的溫度區(qū)域,該還原劑(尿素)迅速熱分解成NH3并與煙氣中的NOX進(jìn)行SNCR反應(yīng)生成N2,該方法是以回轉(zhuǎn)窯內(nèi)為反應(yīng)器。在回轉(zhuǎn)窯內(nèi)這一狹窄的溫度范圍內(nèi)、在無催化劑作用下,NH3或尿素等氨基還原劑可選擇性地還原煙氣中的NOX,基本上不與煙氣中的O2作用,據(jù)此發(fā)展了SNCR法。在一定溫度范圍內(nèi),NH3或尿素還原NOX的主要反應(yīng)為:NH3為還原劑 4NH3+4NO+O2→4N2+6H2O

SNCR主要由(還原劑也可以采用尿素)氨水儲存模塊、氨水計量加壓輸送模塊、霧化噴射系統(tǒng)模塊及PLC控制系統(tǒng)組成;剞D(zhuǎn)窯脫硝室內(nèi)噴槍植入裝置,包括窯體、支撐座、窯體尾部內(nèi)腔內(nèi)設(shè)有噴槍,噴槍沿窯體的中心軸線處設(shè)置;驀姌寚婎^置入回轉(zhuǎn)窯內(nèi),噴槍內(nèi)充入脫硝還原劑,噴槍噴頭植入到窯體內(nèi)溫度區(qū)間內(nèi),脫硝還原劑溶液通過噴槍在壓縮空氣的作用下霧化噴入窯體內(nèi)進(jìn)行反應(yīng),生成的氮氣和水。

(a)(還原劑)氨水儲存模塊

儲罐及還原劑輸送模塊安裝于混凝土圍堰內(nèi)。

氨水輸送泵(1用1備),通過氨水流量調(diào)節(jié)閥和回流調(diào)節(jié)來控制氨水的流量和壓力。

(b)氨水計量加壓輸送模塊

一臺窯一套計量混合模塊,所有儀器儀表集中布置,布置在計量混合模塊柜內(nèi)。噴射系統(tǒng)所需的氨水混合前由流量計控制,電動調(diào)節(jié)閥調(diào)節(jié)以確保分配均勻。還原劑混合液的壓力由壓力檢測監(jiān)控。計量混合模塊布置在噴射區(qū)附近。

(c)霧化噴射系統(tǒng)模塊

在線劑量后的氨水溶液將送到噴射區(qū),各噴槍的還原劑設(shè)有閥門控制本噴射點是否投運,噴槍采用插入保護(hù)套管內(nèi)固定方式。噴槍噴射所需的霧化介質(zhì)采用壓縮空氣。霧化空氣總管上設(shè)有壓力控制,分幾路通到各噴槍,并保證霧化風(fēng)24小時開啟。

(d)PLC控制系統(tǒng)

PLC控制系統(tǒng)會根據(jù)窯尾煙氣NOX的濃度,對氨水的流量進(jìn)行調(diào)節(jié),以達(dá)到脫硝效果。

 

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